Журнал наномедицинских и биотерапевтических открытий
Открытый доступ

Абстрактный

Поверхностное моделирование на основе золь-геля

Дэвид Риассетто, Селин Тернон и Мишель Лангле

Фотолитография — хорошо известная и часто используемая технология. Однако эта технология в основном используется для травления объемных материалов или собственных оксидов и обычно требует этапа травления сильной кислотой или основанием. По этим причинам фотолитография не очень хорошо совместима с чувствительными подложками, такими как стекло или пластик. На основе золь-гель-метода мы сформулировали и оптимизировали различные фоторезисты на основе неорганических оксидов. Эти фоторезисты приводят к одноэтапной литографии (т. е. только с одним этапом осаждения) тонких оксидных пленок нанометрового масштаба, протравленных растворителем или разбавленной кислотой. Такой метод совместим с формированием решеток в диапазоне от миллиметра до субмикрометрового размера на довольно больших поверхностях поверх стеклянных или пластиковых подложек. Наши фоторезисты были изготовлены путем интеграции фоточувствительного хелатирующего соединения в ???классический??? золь-гель оксидный золь. Эти фоторезисты могут быть нанесены методом центрифугирования на различные подложки, затем изолированы через маску и выборочно промыты/протравлены. С одной стороны, фоторезист TiO2 исследовался для функционализации поверхностей с пространственным контрастом смачиваемости. С другой стороны, фоторезист ZnO исследовался для локализованного роста нанопроволок ZnO. Принцип синтеза будет представлен на конференции. Будут представлены физико-химические и морфологические свойства полученных поверхностей, связанные с параметрами процесса. Кроме того, будут показаны потенциальные приложения